Description
Projektā izstrādā un validē ķīmisko, nemehānisko tīrīšanas procesu, lai iegūtu attēlveidošanai atbilstošu, epitaksijai gatavu GaAs nelielām (<1 collas) fotokatodu plāksnēm, ko izmanto infrasarkanās un nakts redzamības iekārtās.
The Achievable Results
Procesa kontrolei un tā parametru robežvērtībām tiks izveidota un attīstīta in-situ spektroskopiskā elipsometrijas metode, kas tiks atbalstīta ar atomspēku mikroskopijas un rentgenstaru fotoelektronu spektroskopijas mērījumiem.
The Anticipated Benefit
Projekta rezultātā tiks izveidots tīrīšanas un žāvēšanas process, kā arī tiks veikta sākotnējā projektēšana nākotnes industriālajām iekārtām.